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概述 |
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在过去几年中，化学机械抛光 (CMP) 广泛地应用在 DRAM
抛光及微处理器和 ASIC 抛光上。随后，当设备的尺寸进一步地缩小到
0.25 微米的水平或更小，材料中许多层必须使用高级电路进行处理时，使用
CMP 抛光已经从一种可选的处理方法转变成一种非常重要技术。
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应用 |
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应用超薄电脑之前的状况
由于系统控制中心只有显示功能，并没有 PC based
CPU，因此实际上不能控制所有的设备。操作员必须操纵每个设备 --
不仅是中央控制器。管理员需要各自为操作收集数据。
应用超薄电脑以后的状况
PPC-120
的高性能通过提供中央控制平台扩展了控制不同设备的可能。现在，操作员使用
PPC-120
来监视系统状况并进行管理。触摸屏使操作员能够对每个设备进行远程操作。这种进步使工厂管理更加有效并节约了成本。
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系统 |
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系统框图
系统结构（软件）：OS/ Windows NT 4.0
系统结构（硬件）：PCL 743B 双端口
RS-422/485 接口卡
问题及解答
CMP 系统需要扩展带 PCL-743B
接口卡的串行通讯端口。这个系统使用了 4 个 COM 端口，包括
RS-232 x 3 和 RS-422 x 1。问题在于没有为 COM
端口扩展保留 IRQ（中断请求）。通过使用 ELO
触摸面板，定点设备（鼠标）就成为多余，这样额外的 COM
端口就可用于扩展。
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优点 |
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研华 PPC-120
满足了客户设计紧凑、成本低廉、性能较高的要求。
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建议 |
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客户已经将 PPC-120 用于系统。但是，由于 CMP
系统实际上需要一个更加紧凑的超薄电脑（象
PPC-102），因此客户建议我们通过扩充内部的扩展槽的数量进一步改进
PPC-102。
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